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米樂m6網(wǎng)址:集成電路EDA前沿技術(shù)研討第1期:芯片制造的關(guān)鍵工藝——計(jì)算光刻OPC

作者:米樂發(fā)布時(shí)間:2025-03-20

  研討活動(dòng)背景

  隨著芯片的復(fù)雜程度和集成度上升、產(chǎn)業(yè)分工以及設(shè)計(jì)成本攀升,EDA成為集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的必備自動(dòng)化工具,貫穿IC設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)等環(huán)節(jié)。盡管EDA全球市場(chǎng)規(guī)模僅百億美元,但作為集成電路行業(yè)的支點(diǎn),其杠桿效應(yīng)顯著,撬動(dòng)了約五千億美元的半導(dǎo)體市場(chǎng)。

  EDA在賦能集成電路制造研發(fā)與量產(chǎn)上效應(yīng)顯著。隨著芯片制造工藝不斷演進(jìn),新材料、新工藝帶來的技術(shù)挑戰(zhàn)為下一代制造EDA技術(shù)提供新的發(fā)展機(jī)遇。光刻(lithography)是集成電路制造中相當(dāng)重要的步驟。光刻是利用光化學(xué)反應(yīng)(Photo-Chemical Reaction,PCR)原理把制備在掩模上的圖形通過光刻投影系統(tǒng)轉(zhuǎn)印至晶圓上的過程。計(jì)算光刻是使用計(jì)算機(jī)來模擬、仿真光刻工藝中光學(xué)和化學(xué)過程,從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑,指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。在先進(jìn)工藝中,計(jì)算光刻已經(jīng)成為光刻工藝研發(fā)的核心米樂m6網(wǎng)址。

  集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化技術(shù)(EDA)前沿技術(shù)研討活動(dòng),聯(lián)合全芯智造資深研發(fā)專家圍繞芯片制造的關(guān)鍵工藝——計(jì)算光刻OPC、良率分析及管理技術(shù)、器件與制程仿真的利器-TCAD三個(gè)系列開展研討,為大家?guī)砭史窒怼?/p>

  支持單位介紹

  全芯智造 作為專注于制造EDA軟件企業(yè),致力于通過人工智能等新興技術(shù)賦能半導(dǎo)體制造業(yè),實(shí)現(xiàn)由專家知識(shí)到人工智能的進(jìn)化。目標(biāo)打造大數(shù)據(jù)+人工智能驅(qū)動(dòng)的半導(dǎo)體智能制造平臺(tái)。此舉將填補(bǔ)中國半導(dǎo)體制造業(yè)核心支撐軟件和智能“大腦”的空白,加快國內(nèi)半導(dǎo)體先進(jìn)工藝研發(fā),完善自主產(chǎn)業(yè)鏈,助力提升中國半導(dǎo)體制造的國際競(jìng)爭(zhēng)力。

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  南京集成電路培訓(xùn)基地設(shè)計(jì)自動(dòng)化培訓(xùn)部(EDA培訓(xùn)部)圍繞企業(yè)研發(fā)過程中的實(shí)際難點(diǎn)和待探索創(chuàng)新技術(shù)的領(lǐng)域,以EDA工具開發(fā)、自主研發(fā)工具的示范應(yīng)用為主要任務(wù),以“集成電路EDA設(shè)計(jì)精英挑戰(zhàn)賽”為抓手,進(jìn)行以賽促教,成立“集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化產(chǎn)教融合聯(lián)盟”進(jìn)行創(chuàng)新機(jī)制探索,共同推進(jìn)EDA課程體系和人才培養(yǎng)體系建設(shè)。

  聯(lián)系方式

  王老師

  18761808089

  wangjing@icisc.cn

  濮老師

  13951036455

  purui @icisc.cnEND

  素材來源丨寧集學(xué)堂

  編輯丨徐光宇

  審核丨胡曉靚米樂M6

集成電路EDA前沿技術(shù)研討第1期:芯片制造的關(guān)鍵工藝——計(jì)算光刻OPC

  發(fā)布丨徐光宇

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